Acide Salicylique*, Eau Purifiée, Acide Stéarique, Polyéthylène Glycol 400, Acide Myristique, Hydroxyde de Potassium, Glycérine Concentrée, Acide Laurique, Éthanol, 1,3-Butylène Glycol, Monostéarate de Glycéryle Auto-Émulsifiant, Solution de Copolymère Chlorure de Diméthyldiallylammonium/Acrylamide, Édétate Disodique, Polyéthylène Glycol de Haut Poids Moléculaire, Pyrosulfite de Sodium, Cyclohexanedicarboxylate de Bis(Éthoxydiglycol), Hyaluronate de Sodium Acétylé, Silice Anhydre, Hyaluronate de Sodium (2), Séricine, Extrait de Camomille (1), Parfum *Indique les « Ingrédients Actifs » ; les Éléments Non Marqués sont les « Autres Ingrédients »
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Pourquoi vous allez adorer Shiseido Senka Perfect Whip Premium Clear
Shiseido Senka Perfect Whip Premium Clear offre la solution ultime pour quiconque lutte contre les imperfections persistantes, les pores obstrués ou une texture de peau rugueuse et irrégulière. Ce nettoyant japonais avancé se distingue comme un choix supérieur car il associe la mousse micro-beauté dense et mondialement connue de Senka à de l'acide salicylique actif pour éliminer les cellules mortes et dissoudre le sébum emprisonné sans altérer la barrière cutanée. Alors que les traitements exfoliants traditionnels peuvent sembler agressifs et desséchants, cette formule testée par des dermatologues intègre de l'extrait de camomille traditionnel, de l'essence de soie naturelle et de l'acide hyaluronique double pour apaiser et protéger le visage pendant le nettoyage. Ce nettoyant quotidien répond au besoin moderne d'une solution préventive contre les éruptions cutanées qui laisse le visage profondément hydraté, souple et entièrement rafraîchi plutôt que tiraillé ou inconfortable.
Pourquoi vous l'aimerez :
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Pressez une noisette de crème sur les paumes mouillées et travaillez pour obtenir une mousse riche et dense, en utilisant un filet moussant pour un volume maximal. Massez délicatement la mousse épaisse sur le visage humide en mouvements circulaires, puis rincez abondamment à l'eau tiède.
